第三百九十四章 与世界为敌(1/4)

    《半导体行业的革新产品出现》

    《阿斯麦公司率先研发出euv光刻机》

    《芯片工艺制程或将提升十倍》

    《芯片工艺已将达到物理极限》

    在依然还有着‘魔力’‘外星生物’这些热点的时候，阿斯麦的euv光刻机在背后一群资本的运作下，立刻就登上了全球热点。

    本来正常来说，一件商品的更新迭代都是有迹可循的，或者说会有着技术储备。

    比如明明euv光刻机是重新的新开赛道，和以前的duv光刻机关系不大，但在平行世界这也硬是等到了芯片达到了duv光刻机极限的7n瓶颈后才拿出来的。

    但在这里，因为安布雷拉duv光刻机带来的压力，还有人工智能以及量子计算+超算的模式前景摆在这里。

    为了重新争夺这尖端利润，为了更美好的前景。

    在如今最顶级的芯片工艺制程还是14n的时候，阿斯麦公司就端出了他们的euv光刻机。

    而且因为安布雷拉对镜片领域的影响加持，还有其他各方面技术带来的竞争感。

    阿斯麦这次提前拿出的euv光刻机比原本计划的各项技术参数，还要更加优秀！

    某积电、四星、英特尔等晶圆厂都已经到货，并开始组装调试！

    显然阿斯麦的euv光刻机并不是说刚刚才造出来的，是已经开始供货让他们加班加点的完成组装后才开始官宣的。

    为的就是一步到位，为的就是减少给竞争对手的反应时间！

    euv光刻机比duv要大得多，重量180吨，甚至连运输都需要专门的车辆，组装起来也相当麻烦。

    如果不是提前就已经为这些合作晶圆厂的工作人员进行了培训，从头开始的话安装调试个大半年都是相当正常的。

    而现在，在安布雷拉那边的压力下，不管是阿斯麦还是各大晶圆厂都拿出了自己的最大潜力，加班加点的全都联动了起来。

    在各路资本推波助澜的炒作下，配合着这次对于安布雷拉新增的多项制裁，也一下让很多人多缓过了神来。

    这一次，恐怕针对的就是安布雷拉！

    “好大的手笔！”